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LMC-2000磁控溅射仪

 

 LMC-2000磁控离子溅射仪,是专用于高倍扫描电镜(SEM)图像和电极制备的金属镀膜系统,成膜精细致密,能够极为有效的提高电镜观测效果。

 

主要用途: 制备金、铂、银、铜、锡、锌、铟、锑等金属薄膜  

 


 

技术特点:

  • 全自动控制,操作简捷
  • 镀膜颗粒小,适用于场发射电镜等高倍样品观测,和电极制备
  • 热损伤,适用于对温度敏感的样品
  • 内置操作向导,无需培训即可熟练操作

 


技术参数

 

名称

参数

1

LMC-2000

1.1显示屏: 5英寸 800×480 彩色触摸屏

1.2真空室: 高硅硼玻璃 φ125×125mm

1.3可用靶材: 金、铂、银、铜、锡、锌、铟、锑等金属

1.4真空系统: 1.1L/S 真空旋片泵

1.5靶材尺寸:φ57×0.12mm

1.6工作电流:5-45mA连续可调

1.7工作时间:1-999s连续可调

1.8工作气体: 空气或氩气

1.9产品尺寸: 424(L)×271(D)×255(H)

 

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创建时间:2022-11-22 15:06