GL-2011离子减薄仪

工作原理

离子减薄制样技术属于离子束加工范畴。其方法是用高能离子束轰击样品表面、高能离子与样品表面原子发生弹性碰撞、样品表面原子能量增大至高于该原子逸出功时，便飞离样品，从而使样品逐渐减薄。离子减薄仪通常用双枪从样品两侧轰击。样品随着支架旋转，使得离子束轰击均匀。

产品描述 

GL2011型离子减薄仪由国内顶尖专家精心设计制作，性能稳定，应用广泛，可对金属、非 金属、陶瓷、矿物、半导体、骨骼、牙齿等几乎所有固体材料进行精密减薄处理。

产品特点 

•   多功能样品台，兼具离子减薄和离子抛光功能

•   离子束流自动控制

•   监视系统采用聚光光源

•   减薄过程无离子束遮挡

•   精心设计防污染观察系统

•   结构紧凑，体积小，精密

•   设计，防误操作系统

•   样品洁净，样品信息更为

    真实可靠

技术指标

• 离子束加速电压：连续可调，0~10kV 

• 品为铜时，减薄速度：30μm/小时（铜样品）

• 不送气时真空度：10-3 Pa

• 离子束对样品的最小倾角：

 7°（普通试样台）， 2°（抛光试样台）

减薄效果（扫描电镜样品）

案例说明：

样品为约100u的铝箔，表面为铝的氧化物。用化学方法或者物理摩擦的方法减薄，都会非常明显的破坏样品表面形貌，甚至改变样品化学成分。

使用GL-2011型离子减薄仪减薄后，在电子显微镜下可以观察到，样品没有任何变形，而且获得完美清晰的样品图像。

减薄效果（透射电镜样品）

可见GL2011离子减薄仪制样效果极为出色，是您科研工作的好帮手。

客户服务

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